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  • 2025

    3-21

    在工業過程控制、環境監測、能源管理等領域,氣體流量的精確測量與控制是確保系統高效、安全運行的核心環節。而體積流量(工況流量)與質量流量(標況流量)作為流量控制的兩種基本參數,其概念、區別及相互關系是理解氣體流動特性的關鍵。一、體積流量與質量流量的基本概念1.體積流量(工況流量)的定義與特點體積流量是指單位時間內通過管道或設備某一截面的氣體體積,常用單位包括立方米每秒(m3/s)、升每分鐘(L/min)等。例如,一臺空氣壓縮機的輸出流量標注為“10m3/min”,即表示每分鐘可...

  • 2025

    3-20

    在高校和科研院所實驗室以及生物制藥、環保監測、半導體制造、新材料、新能源以及各個行業中,氣體的測量與控制應用場景廣泛并且是其中非常重要的一個環節,那么我們在實際使用中應該如何針對我們的實際工況選擇合適的質量流量計(MFM)和質量流量控制器(MFC)呢?首先我們需要考慮氣體流量的范圍,明確實際工況中的最小流量和最大流量,確保設備覆蓋所需范圍,不會因為量程錯誤導致流量計或者流量控制器在小流量段時測量不準確,在大流量時因為過載導致流量計損壞;通過最小流量和最大流量可以選擇合適的量程...

  • 2025

    3-18

    多過程參數測量流量計在環保監測中具有廣泛的實踐應用,其能夠同時測量和顯示多個過程參數,如流量、溫度、壓力等,為環保監測提供了全面、準確的數據支持。以下是對其在環保監測中實踐應用的詳細分析:一、應用背景在環保監測中,常常需要對各種流體進行流量測量,以了解污染物的排放情況、處理效果以及水資源的利用狀況等。傳統的流量計通常只能測量單一的流量參數,而參數測量流量計則能夠同時測量多個相關參數,提高了測量的準確性和全面性。二、應用實例1.污水處理監測在污水處理過程中,電磁流量計常被用于對...

  • 2025

    3-18

    在工業氣體流量測量領域,熱式質量流量計(MFM)和控制器(MFC)因需要預熱而常被詬病,而層流壓差原理的同類設備則憑借“即開即用”的特性脫穎而出。一起來看看什么原因吧!一、預熱需求的根源:熱式流量計的工作原理熱式流量計的預熱需求源于其測量原理。其核心是通過加熱毛細管(旁通微小管道)并檢測氣體流經時的熱量變化來計算流量。具體而言:毛細管加熱的必要性:熱式流量計需將毛細管加熱至特定溫度(通常超過100℃),通過氣體流動帶走的熱量差異來推導流量值。預熱時間限制:設備啟動時,毛細管需...

  • 2025

    3-17

    一、生物制藥生物制藥是指利用生物技術生產藥物的過程,涵蓋基因工程、細胞工程、酶工程、發酵工藝等技術,以開發治療性蛋白、疫苗、抗體等藥物。發酵工藝是生物制藥過程中的核心技術之一,通過生物轉化將酵母菌、細菌、真菌等微生物與培養基反應,從而得到目的性的化學物質,進行后續的制藥工藝處理,最終制成藥品。發酵工藝具有高效、環保、可控性好等優點,在生物醫藥產業中具有重要地位。近年來,隨著生物技術的飛速發展,生物制藥已成為醫藥行業的重要分支,對流量控制等生產環節的要求也日益提高。二、流量控制...

  • 2025

    3-14

    一、功能便攜式氣體質量流量計是一種能夠靈活測量氣體流量的儀器,其核心功能在于精確測量氣體的質量流量。與傳統的體積流量計不同,質量流量計能夠直接測量氣體的質量流量,無需考慮氣體溫度、壓力等變化對測量結果的影響。此外,便攜式氣體質量流量計通常還具備以下功能:多參數測量:除了測量質量流量外,一些便攜式氣體質量流量計還能同時測量氣體的體積流量、溫度、壓力等參數,為用戶提供全面的氣體流量信息。高精度測量:采用先進的傳感技術和信號處理算法,便攜式氣體質量流量計能夠實現高精度的氣體流量測量...

  • 2025

    3-13

    在工業過程控制、環境監測及實驗室研究中,流量測量是至關重要的技術環節。層流壓差質量流量計因其高精度和線性響應特性,成為小流量測量的理想選擇。其核心原理基于層流狀態下的壓差與流量的直接數學關系,結合流體力學理論實現精準測量。本文將從原理、及設計角度解析這一技術的科學基礎。理論基礎:層流與哈根泊肅葉定律層流流動特性:當流體以較低速度流經管道時,呈現層流狀態(雷諾數Re哈根泊肅葉定律1840年,法國科學家泊肅葉(JeanLéonardMariePoiseuille)通過實驗得出層流...

  • 2025

    3-12

    在半導體行業中,質量流量控制器(MFC)扮演著關鍵角色,其應用場景廣泛、控制的氣體類型多且需性能要求高。薄膜沉積:在化學氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)過程中,精確控制反應氣體(如SiH?、NH?)或載氣(如Ar、N?)的流量,以形成均勻的薄膜。等離子體蝕刻:在干法蝕刻中,調節反應氣體(如CF?、Cl?、SF?)和惰性氣體(如Ar)的流量,控制蝕刻速率和選擇性。光刻膠處理:在涂膠或顯影過程中,控制環境氣體(如N?)的純度,防止光刻膠受污染或氧化。腔室清洗:使用腐蝕性...

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